中微：“有人可用”还要“人尽其才”

    反应台交付量突破400台；单反应台等离子体刻蚀设备交付韩国领先的存储器制造商；双反应台介质刻蚀除胶一体机研制成功，这是业界首次将双反应台介质等离子体刻蚀和光刻胶除胶反应腔整合在同一个平台上……这是在过去9个多月时间里，中微半导体设备有限公司交出的成绩单。在80%依靠进口的集成电路芯片行业，凭借“人才”和“创新”两大支柱，中微正在努力实现“超车”。

    等离子体刻蚀，它的加工尺度为普通人头发丝的五千分之一。光是完成这个过程，就需要调动一大批不同领域、经验丰富的专业人才。这仅是制造环节中一个最普通的例子。“‘有人可用’，才能实现我国集成电路产业的赶超。”中微公司董事长兼首席执行官尹志尧说。从2004年成立之初，中微公司就着力营造友好、包容、开明的企业文化氛围，吸引来自不同国家、拥有不同背景的优秀人才。比如，中微从美国硅谷、韩国、中国台湾、日本、新加坡及其他国家和地区聘请业内经验丰富的管理人员和资深技术人员；与此同时，中微也吸收一些从高校、研究所毕业的新人，早期加入中微的一些国内员工经过三四年的努力已经成为企业骨干。

    尹志尧对中微的定位非常清晰：“中微是一个研发型企业，其核心不在于有多少设备、多少厂房、多少土地，而在于有多少优秀的、一流的人才。吸引人才、培养人才，才是中微发展的头等大事。”

    有了人才，还要能够“人尽其才”。研发不可能是一帆风顺的，创新，本就是一个不断尝试的过程，对于研发中的挫折和失败，中微保持开放的态度，为研发人员创造相对宽松的创新环境，鼓励他们大胆创新。“争取做对的事情，争取第一次就把事情做对，同时，在挫折中吸取教训，积累经验。”这是中微的理念，从中也锻炼出一支善于攻坚的研发队伍。

    比如，中微在刚刚涉足IC芯片介质刻蚀设备时，就推出65nm等离子介质刻蚀机产品，此后随着技术进步一直做到45nm、32nm、28nm，乃至现在客户生产线上运行的16nm产品。中微一些基础研发也不断跟进前沿尖端，以保证产品研发能够紧紧跟上甚至领先于国际上的技术发展水平。

    “依靠人才、依靠创新，中微过去两年销售额连续增长40%，我们希望保持这种健康的增长速度。”尹志尧说，“同样，依靠人才、依靠创新，我国的集成电路产业才能最终达到和超越世界先进水平。”（本报记者 颜维琦 曹继军）