我国高端光刻设备跻身世界一流

    本报上海4月7日电(记者颜维琦、曹继军)要把一块体积小巧、功能强大的集成电路芯片制造出来,除了卓越的电路设计外,更离不开将设计图型转换成高性能芯片的制造设备,而其中最关键的设备就是光刻机。经过十年自主创新,上海微电子装备有限公司掌握了光刻机多项核心关键技术并拥有了这一领域的多项自主知识产权,打破了国际垄断,成为世界上第四家掌握这一高端技术的公司。这是记者今天从光刻机十年成果汇报暨上海微电子装备有限公司十年回顾活动上获悉的。

    人们常说,制造一块芯片,其精细程度比在一根头发丝上“绣花”还要高。集成电路装备是集成电路产业价值链顶端的“皇冠”。其中,高端光刻机堪称“皇冠上的明珠”,是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备,集精密光学、机械、控制、材料等先进科学技术和工程技术于一体,研发过程和成果对于集成电路产业和信息产业的发展具有极大的带动作用。我国“十五”、“十一五”、“十二五”发展规划中,高端光刻机被明确定义为重点制造装备,并被列入国家科技重大专项。

    2002年,科技部重大科技专项100纳米高端光刻机的研制落户上海。科技部和上海市政府商定,按现代企业制度建立上海微电子装备有限公司(SMEE)承担这项任务,并同步建设国家光刻设备工程技术研究中心和产品化基地。面对国内基础薄弱、资源匮乏、专利壁垒多的局面,上海微电子装备有限公司不断探索创新,刻苦攻关,于2007年自主设计、制造和集成了我国首台高端投影光刻机。首台先进封装光刻机于2009年下半年实现销售,运行两年多来连续封装几十万片硅片。目前,该系列产品已形成批量销售,并实现海外市场销售突破。2011年,研发完成0.31nm的中高端双频激光干涉测量系统,2012年将形成系列产品进入国内高端精密检测设备市场。截至目前,公司已申请中国专利947项,其中大部分为发明专利,被评为上海市专利工作和知识产权示范企业。